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プラズマ/プロセスの原理 / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳
プラズマ プロセス ノ ゲンリ

データ種別 図書
出版者 東京 : EDリサーチ社
出版年 2001.11
本文言語 日本語
大きさ xxi, 430p : 挿図 ; 26cm
別書名 原タイトル:Principles of plasma discharges and materials processing
一般注記 監修 堀勝
参考文献: p419-423
著者標目 *Lieberman, M. A. (Michael A.)
Lichtenberg, Allan J

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本館書庫・一般書架和
427.6 2002013383


本館書庫・一般書架和
427.6 2002013656


書誌詳細を非表示

件 名 LCSH:Plasma dynamics
LCSH:Thin films -- Surfaces  全ての件名で検索
LCSH:Plasma etching
LCSH:Plasma chemistry
分 類 NDC8:427.6
LCC:QC718.5.D9
DC20:530.4/4
書誌ID 2000154253
NCID BA54690460
巻冊次 PRICE:9500円+税

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